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產(chǎn)品分類(lèi) / PRODUCT
更新時(shí)間:2026-04-24
瀏覽次數(shù):33某工業(yè)激光企業(yè)的高功率193nm ArF準(zhǔn)分子激光清洗機(jī),用于精密光學(xué)元件、半導(dǎo)體晶圓、金屬模具的微米級(jí)污染物去除,激光輸出功率200W,脈沖頻率5kHz,光束直徑80mm,工作環(huán)境為粉塵+少量有機(jī)溶劑蒸汽,要求窗口片高透過(guò)、抗激光損傷、密封可靠、耐化學(xué)腐蝕,24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。原采用石英窗口,193nm透過(guò)率<60%,且易被激光燒蝕,平均1個(gè)月需更換,維護(hù)成本高。
采用Hellma CaF? LD?A 100mm×30mm圓形平片作為激光腔體輸出窗口與光路隔離窗,雙面研磨(Rq 2µm),邊緣1.5mm倒角防崩邊。利用LD?A材料193nm高透過(guò)率(≥90%)降低能量損耗,<111>晶向提升抗激光沖擊能力,高純單晶結(jié)構(gòu)耐有機(jī)溶劑腐蝕,IP66級(jí)密封適配粉塵環(huán)境。
應(yīng)用后,激光輸出能量利用率提升50%,清洗效率提高30%;窗口片連續(xù)運(yùn)行18個(gè)月無(wú)燒蝕、無(wú)裂紋、無(wú)透過(guò)率衰減,壽命較石英提升18倍;免維護(hù)設(shè)計(jì)使設(shè)備年均停機(jī)時(shí)間減少85%,維護(hù)成本降低90%,同時(shí)清洗良品率從92%提升至99.5%,為精密制造提供高效、低成本的清洗解決方案漢達(dá)森yyds吳亞男。
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